北京玻璃镀膜展会,北京玻璃镀膜展会时间

摘要： 大家好，今天小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于北京玻璃镀膜展会的问题，于是小编就整理了1个相关介绍北京玻璃镀膜展会的解答，让我们一起看看吧。华为和国内顶尖企业合作，用ASML...

大家好，今天小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于北京玻璃镀膜展会的问题，于是小编就整理了1个相关介绍北京玻璃镀膜展会的解答，让我们一起看看吧。

1. 华为和国内顶尖企业合作，用ASML模式研发光刻机需要几年？

华为和国内顶尖企业合作，用ASML模式研发光刻机需要几年？

和国内顶尖企业合作当然是可以的，但这并意味着华为能在短时间内研发出光刻机，我归纳起来大致有几下几点因素吧！

相关产业人才缺乏：最近有传言华为大量招聘光刻机研发人员，同时也到处在国内一些相关企业中挖人，最终导致部分企业找有关部门投诉，比如上海微电子等。

出现这种局面反映出国内光刻机领域相关人才匮乏，毕竟光刻机也是实体制造企业，各方面待遇都不如轻资产的互联网行业，很多人员并不乐意去工作。这就导致华为光靠自主招聘根本找不到太多人，只要去一些相关企业挖墙角。

此外，华为挖人这种行为有可能延误现有光刻机研发主力项目的推进，并不完全利于国产光刻机的发展。

打破光刻机现有研发模式：现有国产光刻机有自己的规划，10年前国家就成立了对应的项目组来推进光刻机研发，俗称02专项，这个项目中规划了90nm光刻机，28nm节点浸没式光刻机以及EUV光刻机。

目前90nm已经量产，28nm今年预估能下线，未来2年能量产；EUV光刻机2016年已经完成了原理样机，未来2年会下线验证机，使用的极紫外光源也基本能满足EUV验证机的需求。

从我国国产光刻机的整体推进情况来说，正在稳步的推进中，以上项目进度是靠的举国之力，别真的以为我们的光刻机非常落后，所谓落后也只是相对的。

原先的各个子系统的研发团队和产业化生产厂商以及合作多年，如果说华为和相关企业合作一起研发光刻机，势必成为新入势力，有可能会打破这种研发的平衡，同时也需要重新磨合。

况且华为是私企本身是以营利为目标，而我国现有研发光刻机的团队获取都是国家队，其核心是突破光刻机的技术封锁，承担的是社会责任国家责任，两者核心目标略有区别。

华为是否有大量资金投入：最后一个问题就是光刻机的研发需要大量资金投入，ASML今年一季度的研发投入就是5.5亿欧元（42.24亿人民币），如果换成华为投入的金额远比这个数字要大得多，试问华为承担得起这种长久的资金投入吗？

难度非常大，研发至少在3年以上。

我去年10月在我们学校的秋季招聘会上跟ASML美国研发工程师有过面对面交流，这里简单地和大家分享一些技术细节。

挑战一：超大功率二氧化碳脉冲激光器模组

ASML设备中需用20千瓦以上的激光脉冲，聚焦并轰击液态锡滴，产生EUV射线。开发这种模组需要非常专业的计算机建模软件进行光路设计。国内几乎是空白。

挑战二：锡滴发生器

你需要一组设备，他能够与真空舱室对接，将固态锡熔化成液态锡，准确地控制射出锡滴的大小和频率，并在另一端精准收集。

挑战三：真空舱室内的锡污染

这个问题会导致要频繁更换EUV收集用的反射镜。ASML目前也在探索更好的解决方法。

挑战四：EUV射线的反射材料

EUV不能以透射的方式进行聚焦，反射镜表面需覆盖一层粗糙度极低且均匀的钼/硅镀膜，且整个舱室要保持高真空环境。ASML是与国外顶级企业合作解决的这一问题。

对光刻机领域也算是略微了解，看到有人说3年就有机会，一时兴起想要从技术研发的说明一下。
我们回顾一下目前最热门的EUV光刻机研发之路来看看先进工艺光刻机的生产难度。
EUV光刻机最终能够实现规模化量产的一个重要原因是国家力量主导的EUV LLC联盟先完成科学和理论验证（几百篇论文），验证了EUV技术的可行性，然后才开始了真正的EUV芯片制造之路。
在19***年，由英特尔和美国能源部组织，***了当时还如日中天的摩托罗拉以及AMD，以及当时美国顶尖科研实力的三大国家实验室：劳伦斯利弗莫尔实验室（LLNL）
劳伦斯伯克利实验室(LBNL)
桑迪亚国家实验室(SNL)
投资两亿美元***几百位顶级科学家，从理论上验证EUV可能存在的技术问题。
作为当时最前沿的核心技术，美国***也不允许任何国外厂家加入，尽管英特尔极力邀请ASML,英飞凌（西门子）和日本尼康加入，最终被批准的只有美国的欧洲盟友（英飞凌），而现在如日中天的ASML当时也是通过使用曲线救国的方法（通过收购美国光刻机巨头SVG）才得以加入进来。
技术可行性搞定了，接下来谁来做了?
这个就是ASML的舞台了，为什么不是美国公司?因为美国此时最具实力的光刻机公司SVG（也是intel光刻机最主要的供应商）已经被ASML收购了。
接下来就到了ASML一枝独秀的时候了，
1. 2005年它推出了第一代阿尔法概念机，
2. 2010年诞生的第一台研发用样机：NXE3100
3. 2013年交付了第二代EUV系统（NXE-3300）
4. 2015年推出了第三代EUV系统（NXE-3350）
5. 2016年，第一个可以投入生产的EUV系统（NXE-3400）开始被客户订购
所以看来先进光刻机的制生产制造远不是随随便便几家企业就可以生产出来的，尤其在目前基本需要依靠自己力量的环境下。
即使以中国现在的实力，不差钱，靠国内几家公司半导体设备公司即使加上我们的中科院，10年想要研发出可以规模化量产的EUV光刻机也极其困难。
另外这里面有个很悲情的公司，那就是英特尔，作为EUV技术的主要发起者和贡献者，最终胜利果实却基本被台积电和三星获得，实在是比较悲催……

到此，以上就是小编对于北京玻璃镀膜展会的问题就介绍到这了，希望介绍关于北京玻璃镀膜展会的1点解答对大家有用。